Proteus™是一套全面且功能强大的设计环境，用于建立修正用模型、执行全芯片的光学近似修正、分析已修正和未修正集成电路布局的近似效应。其内置的 高级可编程性和灵活性，能够确保其与设计人员的工艺目标和约束条件达到最佳匹配程度。Proteus的核心修正处理引擎结合了高效的层次化管理器和特有的 高速仿真算法。Proteus通常在多台计算机之间对数据进行高效的并行处理，以获得可靠、精确的全芯片修正和紧凑的输出文件，缩短了设计生产周期。 Progen是一个先进的光刻模型开发工具，用户可以用它创建任意类型的光刻模型，以及将这些模型与实测数据进行良好的匹配，其输出结果是供 Proteus修正引擎使用的紧凑高效的模型。Prospector是一个互动性的可视化和分析工具，能够在模型以及集成电路布局之间实现互动的观察、测 量、比较和输出以供其它工具使用。

主要优点：

• 提高良率，通过修正设计图形的几何形状提高光刻图形的准确性，从而使设计向超深亚微米级的继续推进。

• 高可编程性确保了Proteus能够被应用于任何类型的光学近似效应以及其它由于光阻、蚀刻和基片表面图形影响所导致的图形扭曲现象。

• 支持分布式网络处理，缩短了设计生产周期。通过将任务分配到多个平台上，可以大幅缩短设计周期。

• 在超过1,000个处理器中表现出出色的并行处理的可扩展性

• 为各种工程掩模技术提供强大的支持